Introduction to Surface and Thin Film Physics

Přednášející:

Cvičící:

Předmět zajišťuje:

katedra řídicí techniky

Anotace:

The subject is aimed on physics of thin films and surfaces of solids consisting of three parts: i) summary of deposition methods for thin films, ii) description of analytical methods for surface and film analysis, and iii) application of selected analytical and deposition methods. The exercise is focused on practical use of several methods available at CTU in Prague (evaporation, magnetron sputtering, SEM, AFM, etc.)

Požadavky:

Předpokladem pro úspěšné absolvování tohoto kurzu jsou znalosti základů matematiky a fyziky.

Osnova přednášek:

1.Surface and thin films characterization, ideal and real surfaces

2.Physical Vapour Deposition methods for thin film deposition

3.Chemical Vapour Deposition

4.Growth mechanisms of thin films

5.The properties of thin films and metal surfaces

6.Interaction of electrons with surface I: diffraction, LEED and RHEED

7.Interaction of electrons with surface II: Scanning electron microscopy

8.Interaction of electrons with surface III: Auger electron spectroscopy

9.Interaction of ions with surface I: ion implantation, SIMS

10.Interaction of ions with surface II: RBS and ERDA

11.Interaction of radiation with surface: XPS and XRD

12.Scanning tunneling microscopy

13.Atomic force measurement

14.Advanced methods of optical microscopy

Osnova cvičení:

Cíle studia:

Studijní materiály:

Walls J.M., Smith R. : Surface Science Techniques, Pergamon, 1994

Poznámka:

Rozsah výuky v kombinované formě studia: 14p+6

Další informace:

Pro tento předmět se rozvrh nepřipravuje

Předmět je součástí následujících studijních plánů: